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규제액면기법의 전사방식 광조형 시스템을 위한 이형력 감소
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  • 규제액면기법의 전사방식 광조형 시스템을 위한 이형력 감소
저자명
김혜정,하영명,박인백,김민섭,조광호,이석희,Kim. Hye Jung,Ha. Young Myoung,Park. In Baek,Kim. Min Sub,Jo. Kwang Ho,Lee. Seok Hee
간행물명
한국정밀공학회지
권/호정보
2013년|30권 9호|pp.1001-1006 (6 pages)
발행정보
한국정밀공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Projection-based stereolithography is divided into constrained-surface and free-surface type according to controlling liquid layer. The constrained-surface type has a uniform layer thickness due to the use of a projection window, which covers the pattern generator such as liquid crystal display. However, the adhered resin on the projection window causes trouble and requires great separation force when the cured layer is separated from the window. To minimize the separation force, we developed a system to measure the separation force. The influence of material covering the pattern generator and the resin temperature is investigated in the system. Several structures according to the resin temperature and the velocity of z-axis elevation are compared. As a result, the fabrication condition to minimize the separation force reduces the process time.