다이아몬드 입자를 전착한 와이어를 사용하여 실리콘 잉곳을 슬라이싱 하는 방식은 기존의 슬러리를 사용하는 방식과 달리 절단매체인 실리콘카바이드를 사용하지 않기 때문에 웨이퍼링 후에 발생하는 슬러지에 함유되어 있는 고형분의 대부분은 잉곳으로부터 분리되어 나온 실리콘 성분으로 구성되어 있다. 따라서 슬러지에 함유되어 있는 액상성분만 제거하여도 어렵지 않게 90% 이상의 순도를 가지는 실리콘을 회수할 수 있는 이점이 있다. 본 연구에서 다이아몬드 와이어 쏘잉 방식에서 배출된 슬러지로부터 오일 성분을 제거하여 고품위 실리콘 분말을 회수하였으며, 성형 및 소결공정을 통하여 실리콘에 포함되어 있는 유기물을 포함한 금속불순물을 제거하고, 미분체 실리콘의 산화가 용이한 점을 활용하여 열산화 공정으로 3N급 순도의 실리카를 제조하였다.
Unlike the conventional slurry type wire sawing, the diamond wire sawing method adopts diamond plated wire as sawing media instead of slurry consisted of both silicon carbide and oil. Wafering with diamond plated wire leaves solid element of the sludge mostly made up of silicon, and it is not difficult to recover 95% or more of silicon by a simple separation process of oil from the sludge. In this study, silicon was recovered from the sludge by drying process and organic and metal impurities were removed by sintering process. As result 3N grade silica was obtained successfully by thermal processing utilized the fact that the recovered silicon readily combines with oxygen due to fine particle size.
