본 논문에서는 고주파 이미징 시스템에 사용되는 D-band 이미징 검출기(imaging detector)를 65-nm CMOS 공정을 이용하여 설계 및 제작한 결과를 보인다. 검출기 회로 구조는 resistive self-mixing 원리에 기초를 두고 있다. 제작된 검출기는 145 GHz에서 400 V/W의 최대 반응도(responsivity)와 100 $pW/Hz^{1/2}$의 최소 NEP(Noise Equivalent Power)를 보였다. 제작된 회로의 크기는 측정용 패드와 밸룬을 포함하여 $400{mu}m{ imes}450{mu}m$이며, 중심 회로의 크기는 $150{mu}m{ imes}100{mu}m$이다.
In this work, a D-band imaging detector has been developed in a 65-nm CMOS technology for high frequency imaging application. The circuit was designed based on the resistive self-mixing of MOSFET devices. The fabricated detector exhibits a maximum responsivity of 400 V/W and minimum NEP of 100 $pW/Hz^{1/2}$ at 145 GHz. The chip size is $400{mu}m{ imes}450{mu}m$ including the probing pads and a balun, while the core of the circuit occupies only $150{mu}m{ imes}100{mu}m$.
