유전 알고리즘은 자연의 진화 과정에 기초한 계산 모델로서 전역 최적화 결과를 제공할 수 있다. 변화율(gradient)을 기반으로 하는 방법들과는 달리, 민감도 해석이 요구되지 않으므로 민감도 해석이 어려운 전계(electric field)에서의 나노 단위 구조물의 형상 설계에 적합하다. 본 연구는 유전 알고리즘과 ON/OFF 방법을 기반으로 위상최적화를 수행하여 가시광선 영역에서 새로운 형태의 나노개구 설계를 목표로 하였다. 연구의 목적은 나노개구 아래10nm에 위치한 측정영역에서의 전계 투과효율(transmission rate)을 최대화하며, 동시에 다른 영역에서의 전계 분포를 최소화하는 것이다. 유한요소해석 및 최적화 과정은 상용 프로그램 COMSOl과 Matlab 프로그램의 연동에 의하여 수행되었다. 최적화 모델의 결과는 초기 모델과의 전계 강도 (electric field intensity) 및 근접장의 초점치수(spot size)를 비교하여 분석하였다.
A genetic algorithm (GA) is an optimization technique based on natural evolution theory to find the global optimal solution. Unlike the gradient-based method, it can design nanoscale structures in the electric field because it does not require sensitivity calculation. This research intends to design a nanoaperture with an unprecedented shape by the topology optimization scheme based on the GA and ON/OFF method in the visible frequency range. This research mainly aims to maximize the transmission rate at a measuring area located 10nm under the exit plane and to minimize the electric distribution at other locations. The finite element analysis (FEA) and optimization process are performed by using the commercial package COMSOL combined with the Matlab programming. The final results of the optimized model are analyzed by a comparison of the electric field intensity and the spot size of near field with those of the initial model.
