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The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Park. Jung-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2011, Vol.12 No.4 144-147 (4 pages)
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Etching Characteristics of HfAlO3 Thin Films Using an Cl2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Ha. Tae-Kyung, Woo. Jong-Chang, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2010, Vol.11 No.4 166-169 (4 pages)
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Dry Etching of Al2O3 Thin Films in O2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Yang. Xeng, Woo. Jong-Chang, Um. Doo-Seung, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2010, Vol.11 No.5 202-205 (4 pages)
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Effect on 4H-SiC Schottky Rectifiers of Ar Discharges Generated in A Planar Inductively Coupled Plasma Source
Jung. P.G., Lim. W.T., Cho. G.S., Jeon. M.H., Lee. J.W., Nigam. S., Ren. F., Chung. G.Y., Macmillan. M.F., Pearton. S.J. 대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science 6 Pages
대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science 2003, Vol.3 No.1 21-26 (6 pages)
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The Dry Etching Characteristics of TiO2 Thin Films in N2/CF4/Ar Plasma
Choi. Kyung-Rok, Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Chun. Yoon-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 5 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2014, Vol.15 No.1 32-36 (5 pages)
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The Dry Etching of TiN Thin Films Using Inductively Coupled CF4/Ar Plasma
Woo. Jong-Chang, Choi. Chang-Auck, Joo. Young-Hee, Kim. Han-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2013, Vol.14 No.2 67-70 (4 pages)
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The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films
Kim. Han-Soo, Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2013, Vol.14 No.1 12-15 (4 pages)
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Etch Properties of HfO2 Thin Films using CH4/Ar Inductively Coupled Plasma
Woo. Jong-Chang, Kim. Gwan-Ha, Kim. Dong-Pyo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 5 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2007, Vol.8 No.6 229-233 (5 pages)
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Removal of OH Spectral Interferences from Aqueous Solvents in Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectrometry (ICP-AES) with Ar Cryogenic Desolvation
Cho. Young-Min, Pak. Yong-Nam 대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society 6 Pages
대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society 2005, Vol.26 No.9 1415-1420 (6 pages)
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Effect of autologous platelet-rich plasma application on cutaneous wound healing in dogs
Cho-Hee Jee, Na-Young Eom, Hyo-Mi Jang, Hae-Won Jung, Eul-Soo Choi, Jin-Hee Won, Il-Hwa Hong, Byeong-Teck Kang, Dong Wook Jeong, 대한수의학회 Journal of Veterinary Science 9 Pages
대한수의학회 Journal of Veterinary Science 2016, 제 17권 제 1호 10 79-87 (9 pages)
This study was conducted to identify the effectiveness of platelet-rich plasma (PRP) and efficacy of intralesional injection as a method of application to acute cutaneous wounds in dogs. Healthy adult beagles (n = 3) were used in this study. Autologous PRP was separated from anticoagulant treated whole blood in three dogs. Cutaneous wounds were created and then treated by intralesional injection of PRP in the experimental group, while they were treated with saline in the control group on days 0,... -
Osteogenic potential of mesenchymal cells derived from canine umbilical cord matrix co-cultured with platelet-rich plasma and demineralized bone matrix
Talita F.B. Souza, Silmara S. Sakamoto, Gabriel T.N.M. Ferreira, Roberto Gameiro, Marcia Marinho, Alexandre L. de Andrade, Terez 대한수의학회 Journal of Veterinary Science 4 Pages
대한수의학회 Journal of Veterinary Science 2015, 제 16권 제 3호 17 381-384 (4 pages)
Canine mesenchymal cells (MSCs) derived from Wharton’s jelly were co-cultured, then supplemented or not supplemented with platelet rich plasma (PRP) and demineralized bone matrix (DBM) to verify osteogenic differentiation. Osteoblastic differentiation followed by mineralized bone matrix production was found to be significantly higher (p ＜ 0.05) when MSCs were associated with PRP/DBM in culture after 14–21-days of induction. Osteopontin and osteocalcin gene expression were... -
Effect of Temperature on Dicarboxylate Transport in Plasma Membrane Vesicles of Rabbit Proximal Tubule
Han, Kyung-Moon, Kim, Young-Hee, Woo, Jae-Suk, Kim, Yong-Keun 대한생리학회 대한생리학회지 6 Pages
대한생리학회 대한생리학회지 1993, 제 27권 제 2호 11 227-232 (6 pages)
The temperature dependence of Na+-dependent succinate uptake was studied in brush border (BBMV) and basolateral (BLMV) membrane vesicles isolated from the rabbit kidney cortex. The succinate uptake was markedly altered by temperature in a similar fashion in both membranes. The temperature dependence was characterized by a nonlinear Arrhenius plot with a break point at 22 and 25℃ for BBMV and BLMV, respectively. The activation energy was 3.91 and 17.09 kcal/mole at above and below the break... -
Cholinergic Control of Pancreatic Secretion: The Effects of Atropine on Plasma Cholecystokinin and Secretin Release
Jo, Yang-Hyeok, Rhie, Duck-Joo, Chang, Young-Soon, Hahn, Sang-June, Sim, Sang-Soo, Kim, Myung-Suk, Kim, Chung-Chin 대한생리학회 대한생리학회지 10 Pages
대한생리학회 대한생리학회지 1991, 제 25권 제 1호 3 27-36 (10 pages)
Generally, it has been known that cholecystokinin (CCK) release into the plasma is under cholinergic control, but secretin release is not. Thus in anesthetized dogs we studied the effect of atropine (50 μg/kg followed by 50 μg/kg/hr) on pancreatic secretion and plasma concentrations of bioactive CCK and immunoreactive secretin in response to intraduodenal perfusion of sodium oleate (1, 3 and 9 mmol/hr). The volume, protein output and bicarbonate output of the secretion were increased by sodium... -
Steam plasma를 이용한 폐PS수지(Polystyrene Resin)의 가스화 처리 연구
박현서, 임경완, 유병수 한국열환경공학회 열환경공학 13 Pages
한국열환경공학회 열환경공학 2012, 제 9권 1호 3 17-29 (13 pages)
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Plasma 처리한 유기 절연층을 갖는 유기 박막 트랜지스터의 전기적 특성 연구
김연주, 박재훈, 강성인, 최종선 한국진공학회 韓國眞空學會誌 4 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2004, Vol.13 No.3 99-102 (4 pages)
유기 절연층을 사용한 유기 박막 트랜지스터의 특성 향상을 위해 절연층 표면에 Ar플라즈마 처리를 하였다. 플라즈마 처리는 절연체 표면의 화학적, 물리적 특성 변화를 통해 그 후에 이어지는 활성층 성막시 분자들의 결정성을 향상시키기 위한 방법이다. 활성층으로 사용된 물질은 pentacene이며, 절연층으로 사용된 물질은 PVP(poly-vinyl-phenol)이다. Pentacene는 약 $10^{-6}$ Torr에서 0.5 $AA$/sec의 속도로, PVP는 spin coating법에 의해 각각 성막되었다. 형성된 절연층을 일정 시간동안 H플라즈마 처리 한 후 각 소자의 전기적... -
AC plasma display panel의 페닝 방전가스 혼합비 변화에 따른 방전특성 연구
박문필, 이승준, 이재경, 황호정 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2002, Vol.11 No.2 127-134 (8 pages)
2원 혼합기체에 페닝 효과를 극대화하기 위한 소량의 Ar, Kr을 첨가하여 각각의 첨가비에 따른 방전 개시전압, 방전 유지전압, 휘도, 발광효율 등을 측정하였다. 또한 페닝효과에 의한 방전 공간상의 전자수 증가를 확인하기 위해 셀 내의 전극 위에 쌓이는 벽전하 양을 측정하였다. 소량의 Ar(0.01%-0.03%) 또는 Kr(0.01%-0.03%)을 HE-Ne-Xe과 Ne-Xe 혼합가스에 첨가했을 때 페닝효과에 기인하여 휘도 및 발광효율이 각각 최고 10%-20% 증가하였다. 또한 페닝효과를 확인하기 위한 벽전하의 양은 10%-25% 증가를 보였다. 방전개시전압 및... -
Plasma로 활성화된 질소 원자를 사용한 사파이어 기판 표면의 저온 질화처리의 XPS 연구
이지면, 백종식, 김경국, 김동준, 김효근, 박성주 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 1998, Vol.7 No.4 320-327 (8 pages)
원격 플라즈마 화학기상증착법(Remote Plasma Enhanced-Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition)에 의해 활성화된 질소 원자를 사용하여 사파이어 기판의 표면 을 저온에서 질화처리한 후 표면의 화학적 조성을 조사하였다. 질화처리에 의해 주로 표면 에 형성된 물질은 AIN임을 X-선 광전자 분광방법(X-ray photoelectron spectroscopy:XPS) 을 사용하여 확인하였다. 또한 플라즈마의 RF 출력, 반응 온도 및 시간에 따라서 기판의 Al 과 반응한 질소의 상대적인 양과, 표면 형태를 XPS와 AFM(atomic force microscopy)을 사... -
모델링을 통한 Ar 플라즈마 중의 미립자 운동에 관한 연구
임장섭, 소순열 한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 8 Pages
한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 2004, Vol.18 No.1 52-59 (8 pages)
부유하는 상태를 말한다. 플라즈마 프로세스에서는 이러한 미립자가 집적회로에 중착되어 막의 열화, 회로 배선의 불량 및 단선 등의 약영향을 끼치는 것으로 인식되고 있으며, 이러한 부분에 대한 억제나 제어에 관한 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 유체 모델을 이용한 시뮬레이션으로부터 방전 챔버내의 Ar 플라즈마의 현상을 이해하고, Ar 플리즈마 중에 미립자를 투입하여 그 움직임을 분석하여, 플라즈마 중의 미립자 운동의 핵석 결과로서는, 하부 전극 면위에 비교적 규칙성을 갖는 미립자가 배열하는 것을 확인할 수... -
Model-Based Analysis of the $ZrO_2$ Etching Mechanism in Inductively Coupled $BCl_3$/Ar and $BCl_3/CHF_3$/Ar Plasmas
Kim. Man-Su, Min. Nam-Ki, Yun. Sun-Jin, Lee. Hyun-Woo, Efremov. Alexander M., Kwon. Kwang-Ho 한국전자통신연구원 ETRI journal 11 Pages
한국전자통신연구원 ETRI journal 2008, Vol.30 No.3 383-393 (11 pages)
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Ar 가스 압력과 RF 전력에 따른 유도결합형 플라즈마의 전기적 및 광학적 특성
최용성, 허인성, 이영환, 박대희 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 7 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2004, Vol.17 No.5 560-566 (7 pages)
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Cl2/CF4 플라즈마에 Ar, O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과
강명구, 김경태, 김창일 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 6 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2002, Vol.15 No.4 319-324 (6 pages)
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Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl2-Based Plasma
Woo. Jong-Chang, Ha. Tae-Kyung, Li. Chen, Kim. Seung-Han, Park. Jung-Soo, Heo. Kyung-Mu, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2011, Vol.12 No.2 60-63 (4 pages)
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O2/ Ar 플라즈마 처리에 의해 개질된 폴리카보네이트 기판에서 Cu의 밀착성
박준규, 김동원, 김상호, 이연승, Park. Jun-Kyu, Kim. Dong-Won, Kim. Sang-Ho, Lee. Youn-Seoung 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2002, Vol.12 No.9 740-746 (7 pages)
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Plasma 용사된 MgO 안정화 지르코니아 단열피복의 기공도와 경도에 미치는 용사조건의 영향
박영규, 최국선, 이동희, Park. Yeong-Gyu, Choe. Guk-Seon, Lee. Dong-Hui 한국재료학회 한국재료학회지 10 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1992, Vol.2 No.2 85-94 (10 pages)
Plasma 용사된 단열피복에 내재하는 기공의 크기, 형상 및 분포는 피복층 자체의 물성에 지대한 영향을 미치므로 이를 용사변수에 따라 조사하였다. MgO 안정화 지르코니아 피복시 도입되는 기공은 미세기공 외에 각각 생성기구가 다른 조대한 기공 즉 구형과 불규칙한 기공, 그리고 crack으로 구성되었다. 용사거리에 따라 기공의 생성과정과 특성이 변하였으며 Plasma 전류 및 가스 유량의 증가에 의해서 기공도는 감소하는 경향을 보였다. Plasma 가스가 $N_2$인 경우가 Ar보다 더 높은기공도를 보였고 전체적으로 단열피복의 기공도는... -
하이브리드 플라즈마 입자가속 충격퇴적(Hybrid Plasma - Particle Accelerating Impact Deposition, HP-PAID) 프로세스에 의한 Si 나노구조 코팅층의 제조 및 특성평가
이형직, 권혁병, 정해경, 장성식, 윤상옥, 이형복, 이홍림 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 6 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2003, Vol.40 No.12 1202-1207 (6 pages)
가속입자충격 프로세스를 이용하여 기상의 TEOS(tetraethoxysilane, (C$_2$ $H_{5}$O)$_4$Si)를 Ar-hybrid plasma 환경 하에 분사하는 방법으로 나노구조(nanostructured) Si 코팅 합성에 대해서 연구하였다. 반응가스와 함께 플라즈마제트는 노즐을 통해서 챔버속으로 700 torr정도에서 10 torr정도로 압력 강하를 동반하며 확장되었다. 노즐의 초중단부에서 핵생성 및 입성장한 초미세입자는 노즐의 하단의 자유 제트에서 가속되어 온도조절 기판위에 관성 충격에 의해 퇴적되어 10nm 이하의 비정질 실리콘 코팅층이 형성되었다. 퇴적된... -
Ar 플라즈마 처리에 따른 Al-doped ZnO 박막특성변화
진선문, 안철우, 조남인, 남형진, Jin. Sun-Moon, Ahn. Chul-Woo, Cho. Nam-In, Nam. Hyoung-Gin 한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 4 Pages
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 2011, Vol.10 No.4 43-46 (4 pages)
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$Ar^+$ RF 플라즈마 처리조건이 임베디드 PCB내 전극 Cu박막과 ALD $Al_2O_3$ 박막 사이의 계면파괴에너지에 미치는 영향
박성철, 이장희, 이정원, 이인형, 이승은, 송병익, 정율교, 박영배, Park. Sung-Cheol, Lee. Jang-Hee, Lee. Jung-Won, Lee. In-Hyung, Lee. Seung-Eun, Song. Byoung-Ikg, Chung 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 8 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2007, Vol.14 No.1 61-68 (8 pages)
순수 빔 굽힘을 가정한 에너지 평형 해석을 통하여 계면파괴에너지를 구하였다. $Cu/Al_2O_3$의 계면파괴에너지(${Gamma}$)는 매우 약하여 측정할 수 없었으나, 접착력 향상층 Cr 박막을 삽입하여 $Cr/Al_2O_3$의 계면파괴에너지는 $10.8{pm}5.5g/mm$를 얻었다. $Al_2O_3$ 표면에 $0.123W/cm^2$ 의 power density로 2분간 $Ar^+$ RF 플라즈마 전처리를 하고 Cr박막을 삽입한 $Cr/Al_2O_3$ 계면파괴에너지는 $39.8{pm}3.2g/mm$으로 매우 크게 증가하였는데, 이는 $Ar^+$ RF 플라즈마 전처리에 따른 mechanical interlocking효과와 Cr-O... -
Ar Ion Beam 처리를 통한 Organic Thin Film Transistor의 성능향상
정석모, 박재영, 이문석, Jung. Suk-Mo, Park. Jae-Young, Yi. Moon-Suk 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 5 Pages
대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 2007, Vol.44 No.11 15-19 (5 pages)
진공 증착하기 전에 게이트 절연막을 $O_2$ plasma와 Ar ion beam을 이용하여 건식법으로 전처리 한 후 표면 특성을 atomic force microscope (AFM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)를 사용하여 비교 분석하였고, 각 조건으로 OTFT를 제작하여 전기적 특성을 확인하였다. Ar ion beam으로 표면처리 했을 때, $O_2$ plasma처리했을 때 보다 향상된 on/off ratio 전기적 특성을 얻을 수 있었다. 표면 세정을 위하여 $O_2$ plasma 처리시 $SiO_2$ 표면의 OH-기와 반응하여 oxide trap density가 높아지게 되고 이로 인하여 off... -
Ar 가스 압력과 RF 전력변화에 따른 유도결합형ㆍ플라즈마 E-H모드 변환의 광학적 특성
허인성, 조주웅, 이영환, 김광수, 최용성, 박대희 대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 4 Pages
대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 2004, Vol.53 No.1 20-23 (4 pages)
