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플라즈마 화학증착법에 있어 모재의 표면조도가 TiN 박막층의 밀착력에 미치는 영향에 관하여
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  • 플라즈마 화학증착법에 있어 모재의 표면조도가 TiN 박막층의 밀착력에 미치는 영향에 관하여
  • Effect of Substrate Roughness on the Adhesion of TiN Deposition by PACVD
저자명
강해용,김문일,Kang. H.Y.,Kim. M.I.
간행물명
열처리공학회지
권/호정보
1991년|4권 2호|pp.27-37 (11 pages)
발행정보
한국열처리공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The adhesion strength of TiN films to substrate(STC 3) steel has been studied using the scratch adhesion test. Before deposition, the substrates were mechanically polished and TiN films were deposited at different substrate temperature($480^{circ}C-540^{circ}C$). The chemical properties of TiN films were investigated by RBS, and EDS, and the physical properties were investigated by micro-hardness tester, SEM, and X-ray diffractometer. According to results of this study, the adhesion strength of TiN films increase with increasing the deposition temperature. The roughness of the polished substrates surface were measured with a profilometer. It was observed that, as a general rule, the adhesion strength of deposited TiN films increase with decreasing the substrates surface roughness.