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개선된 T-gate기술로 제작한 초저잡음 AlGaAs/InGaAs/GaAs pseudomorphic HEMT 소자의 특성
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  • 개선된 T-gate기술로 제작한 초저잡음 AlGaAs/InGaAs/GaAs pseudomorphic HEMT 소자의 특성
저자명
이진희,윤형섭,최상수,박철순,박형무
간행물명
電子工學會論文誌. Jounnal of the Korea institute of telematics and electronics. A. A
권/호정보
1995년|3호|pp.118-123 (6 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

We have successfully fabricated a super low noise pseudomorphic HEMT(PHEMT) device with AlGaAs/InGaAs/GaAs sturcture by using improved T-Gate which have increased a large gaet cross-sectional area about two times in comparision with those of conventional T-gate processes. The PHEMSTs with 0.15$mu$m-long and 140$mu$m-wide gates have eshibited a super low noise characteristics, the noise figure of 0.45dB with associated gain of 10.87dB at 12GHz. The cut-off rewuqncy of the device is 94gHz with a transconductance of 418mS/mm.