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PICTS 방법에 의한 급속열처리시킨 반절연성 InP(100)에서 깊은준위에 관한 연구
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  • PICTS 방법에 의한 급속열처리시킨 반절연성 InP(100)에서 깊은준위에 관한 연구
  • A Study on Deep Levels in Rapid Thermal Annealed PICTS Semi-Insulating InP(100) by PICTS
저자명
김종수,김인수,이철욱,이정열,배인호
간행물명
電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
권/호정보
1997년|10권 8호|pp.800-806 (7 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The behavior of de levels in rapid thermal annealed Fe-doped semi-insulating InP(100) was studied by photoinduced current transient spectrocopy(PICTS). In bulk InP, T2(Ec-0.24 eV), T3(Ec-0.30 eV) and T5(Ec-0.62 eV) traps were observed. After annealing the T2 trap was annihilated at 20$0^{circ}C$ and recreated at 35$0^{circ}C$. T3 trap was not affected below 40$0^{circ}C$. With increasing temperature the concentration of T5 trap reduced and it was annihilated at 30$0^{circ}C$. However the T1(Ec-0.16 eV) and T4(Ec-0.42 eV) traps were began to appear at 40$0^{circ}C$and these concentrations were increased with annealing temperature. The T1 and T4 traps seem to be related to the isolated phosphorus vacancy( $V_{p}$) and $V_{p}$-indium antisite( $V_{p}$- $P_{in}$ ) or $V_{p}$-indium interstitial( $V_{p}$-I $n_{I}$) respectiely.respectiely.