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Sol-Gel법에 의한 PbZrO$_3$박막 결정의 제작
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  • Sol-Gel법에 의한 PbZrO$_3$박막 결정의 제작
저자명
전기범,김원보,배세환
간행물명
한국결정성장학회지
권/호정보
2000년|10권 3호|pp.211-218 (8 pages)
발행정보
한국결정성장학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

$PbZrO_3$의 전구체 용액을 준비하여 spin coating법으로 Pt/Ti/$SiO_2$/Si 기판 위에 박막을 입힌 후 두가지 방법으로 열처리하여 $PbZrO_3$박막 결정의 형성을 조사하였다. 즉, 하나는 $500^{circ}C$, $550^{circ}C$, $600^{circ}C$, $650^{circ}C$ 및 $700^{circ}C$로 가열된 전기로 속에 직접 삽입하여 결정화시켰으며, 다른 한가지 방법은 동일한 온도조건하에서 급속가열방식(RTA)으로 열처리하여 박막을 결정화시켰다. 또 전기로에 삽입하여 $700^{circ}C$에서 1분, 10분, 20분, 30분 동안 열처리하여 시간의 변화에 따른 결정의 형성과정도 살펴보았다. PZ 박막을 전기로에 직접 삽입한 경우 $600^{circ}C$에서 30분간 그리고 RTA의 경우 $650^{circ}C$에서 1분간 열처리 하였을 경우 결정이 형성되었고, $700^{circ}C$의 전기로에 삽입한 경우에는 10분 이상의 시간이 요구되었다. 그러나 양호한 결정 grain의 형성을 위해서는 $700^{circ}C$에서 30분간 열처리하는 것이 4가지 열처리 시간 중 가장 좋은 것으로 나타났다.

기타언어초록

$PbZrO_3$precursor was prepared for the spin coating on the Pt/Ti/$SiO_2$/Si substrate. Two different heat treatment methods were used and the differencies were studied. One of the method is that the films were inserted into the furnace for 30 minutes and the other is that the films were annealed by rapid thermal annealing (RTA) for 1 minute at the same temperatures. We also examined the tendency of crystallization by annealing at the fixed temperature, $700^{circ}C$ as a function of time, namely during 1, 10, 20, and 30 minitues, respectively. The optimum conditions for the crystallization of these films were at $550^{circ}C$ during 30 min. and at $700^{circ}C$ during 10 min. in muffle furnace and at $650^{circ}C$ during 1 min in RTA furnace. The best condition for making good quality grains needs 30 min. at $700^{circ}C$.