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III-V 광소자 제작을 위한 ITO/n+lnP 옴 접촉 특성연구
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  • III-V 광소자 제작을 위한 ITO/n+lnP 옴 접촉 특성연구
저자명
황용한,한교용
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
2002년|15권 5호|pp.449-454 (6 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The use of a thin film of indium between the ITO and the $n^+-lnP$ contact layers for InP/InGaAs HPTs was studied without degrading its excellent optical transmittance properties. $ITO/n^+-lnP$ ohmic contact was successfully achieved by the deposition of indium and annealing. The specific contact resistance of about $6.6{ imes}10^{-4}Omega extrm{cm}^2$ was measured by use of the transmission line method (TLM). However, as the thermal annealing was just performed to $ITO/n^+-lnP$ contact without the deposition of indium between ITO and $n^+-lnP$, it exhibited Schottky characteristics. In the applications, the DC characteristics of InP/InGaAs HPTs with ITO emitter contacts was compared with those of InP/InGaAs HBTs with the opaque emitter contacts.