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고전압 방전 플라즈마에 의해 합성한 질화탄소 박막의 열처리 효과
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  • 고전압 방전 플라즈마에 의해 합성한 질화탄소 박막의 열처리 효과
저자명
김종일
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
2002년|15권 5호|pp.455-459 (5 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

I have investigated the effects of annealing on a polymeric $alpha-C_3N_{4.2}$ at high pressure and temperature in the presence of seeds of crystalline carbon nitride films prepared by a high voltage discharge plasma. The samples were evaluated by x-ray photoelectron spectroscopy (XPS), infrared spectroscopy, Auger electron spectroscopy and x-ray diffraction(XRD). Notably, XPS studies of the film composition before and after annealing demonstrate that the nitrogen composition in $alpha-C_3N_{4.2}$ material initially containing more than 58% nitrogen decreases during the annealing process and reaches a common, stable composition of ~43%. XPS analysis also shows that the nitrogen composition in the annealed films without polymeric $alpha-C_3N_{4.2}$ was reduced from 35% to 17%. Furthermore the concentration of the sp$^3$bonded phase increased with the increment of the annealing temperature.