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Photoreflectance 측정에 의한 InxGa1-xP의 특성 연구
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  • Photoreflectance 측정에 의한 InxGa1-xP의 특성 연구
  • A Study of Characteristics of lnxGa1-xP by Photoreflectance measurement
저자명
김동렬,유재인,Kim. D. L.,Yu. J. I.
간행물명
한국레이저가공학회지
권/호정보
2005년|8권 3호|pp.5-10 (6 pages)
발행정보
한국레이저가공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

[ $InxGa_{1-x}P/GaAs$ ] structures were grown by chemical beam epitaxy(CBE), Pure phosphine($PH_3$) gases were used as group V sources. for the group III sources, TEGa, TmIn were used. $InxGa_{1-x}P$ epilayer was grown on SI-GaAs substrate and has a 1-${mu}m$ thick. We have investigated the characteristics of $InxGa_{1-x}P$ by the photoreflectance(PR) spectroscopy, The PR spectrum of $InxGa_{1-x}P$ shows third-derivative feature whose Peaks Provide energy gap. The energy gap of $InxGa_{1-x}P$ has deduced composition x. From temperature dependance of PR spectra, temperature coefficient is $dEg/dT=-3.773{ imes}10^{-4}$ eV/K, and Varshni coefficients $alpha$ and $eta$ values obtained $4{ imes}10^4$ eV/K and 267 K respectively. Also, interaction $alpha$B was 19.4 meV using the Bose-Einstein temperature relation, and $Theta$ value related the average phonon frequency were 101.4 K. In particular, shoulder peak related to defects observed in PR signal that measured in temperature 82 K.