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반도체 공정용 차압식 질량 유량 제어 장치의 개발 및 성능 평가
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  • 반도체 공정용 차압식 질량 유량 제어 장치의 개발 및 성능 평가
  • Development and Evaluation of Differential Pressure Type Mass Flow Controller for Semiconductor Fabrication Processing
저자명
안진홍,강기태,안강호,Ahn. Jin-Hong,Kang. Ki-Tai,Ahn. Kang-Ho
간행물명
반도체및디스플레이장비학회지
권/호정보
2008년|7권 3호|pp.29-34 (6 pages)
발행정보
한국반도체및디스플레이장비학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

This paper describes the fabrication and characterization of a differential pressure type integrated mass-flow controller made of stainless steel for reactive and corrosive gases. The fabricated mass-flow controller is composed of a normally closed valve and differential pressure sensor. A stacked solenoid actuator mounted on a base-block is utilized for precise and rapid control of gas flow. The differential pressure flow sensor consisting of four diaphragms can detect a flow rate by deflection of diaphragm. By a feedback control from the flow sensor to the valve actuator, it is possible to keep the flow rate constant. This device shows a fast response less than 0.3 sec. Also, this device shows accuracy less than 0.1% of full scale. It is confirmed that this device is not attacked by toxic gas, so the integrated mass-flow controller can be applied to advanced semiconductor processes which need fine mass-flow control corrosive gases with fast response.