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OTS처리 전후 실리콘산화막 위에서 펜타신의 성장과 에너지준위의 정렬
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  • OTS처리 전후 실리콘산화막 위에서 펜타신의 성장과 에너지준위의 정렬
저자명
김정원,이영미,박용섭,Kim. J.W.,Lee. Y.M.,Park. Y.
간행물명
韓國眞空學會誌
권/호정보
2008년|17권 5호|pp.394-399 (6 pages)
발행정보
한국진공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

산화규소막에 Octadecyltrichlorosilane (OTS)로 자기조립층을 형성하기 전후에 펜타신을 흡착하여 광전자분광기술 및 광전현미경을 이용하여 전자구조 및 분자성장을 비교 관찰하였다. OTS처리한 경우 펜타신과 기판사이의 상호작용이 비교적 약하여 펜타신의 표면 확산이 활발하고 펜타신끼리 서로 뭉쳐서 성장함으로써, 시료와 펜타신의 에너지준위 정렬을 나타내는 HOMO 오프셋 값이 계속적으로 변하는 결과를 가져온다. 이에 반해 산화규소막 위에서는 펜타신이 기판과 비교적 강하게 결합하여 초기부터 에너지준위 정렬값에 크게 기여를 하고 두께가 증가해도 그 변화는 미미하다.

기타언어초록

Growth and electronic structure of pentacene film on silicon oxide before and after octadecyltrichlorosilane (OTS) treatment have been studied by photoelectron spectroscopy and photoelectron emission microscopy. On the OTS-treated surface, due to the weak interaction between the substrate and pentacene, the diffusion of pentacene is enhanced and domain size gradually grows, leading to a gradual change of the HOMO offset position. On the bare silicon oxide, the change of the HOMO position is marginal because of relatively strong interaction between the substrate and pentacene from the beginning.