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A Review of Epitaxial Metal-Nitride Films by Polymer-Assisted Deposition
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  • A Review of Epitaxial Metal-Nitride Films by Polymer-Assisted Deposition
  • A Review of Epitaxial Metal-Nitride Films by Polymer-Assisted Deposition
저자명
Luo. Hongmei,Wang. Haiyan,Zou. Guifu,Bauer. Eve,Mccleskey. Thomas M.,Burrell. Anthony K.,Jia. Quanxi
간행물명
Transactions on electrical and electronic materials
권/호정보
2010년|11권 2호|pp.54-60 (7 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Polymer-assisted deposition is a chemical solution route to high quality thin films. In this process, the polymer controls the viscosity and binds metal ions, resulting in a homogeneous distribution of metal precursors in the solution and the formation of crack-free and uniform films after thermal treatment. We review our recent effort to epitaxially grow metal-nitride thin films, such as hexagonal GaN, cubic TiN, AlN, NbN, and VN, mixed-nitride $Ti_{1-x}Al_xN$, ternary nitrides tetragonal $SrTiN_2$, $BaZrN_2$, and $BaHfN_2$, hexagonal $FeMoN_2$, and nanocomposite TiN-$BaZrN_2$.